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“了不起啊,小陆,你们了不起啊。”
沙领导满意道:“我记得是7年前还是8年前,也是在这里,你让我看的是65nm干式光刻机,还向我保证绝对能搞出属于我们自己的国产的浸润式光刻机,我本来以为要花10年甚至更长的时间,没想到你给了我们一个大大的惊喜啊!这么快让你们搞出来了!”
“哪里,哪里,领导。”
陆飞露出谦虚而内敛的笑容。
“说说吧,到底是怎么搞出来的?”
沙领导眼里满是赞赏之色。
“其实这并不是逻辑和中微两家的功劳,我们只负责整体的统筹调度和集成研发。”
陆飞笑道:“DUV浸润式光刻机能成功,完完全全归功于参与到整个项目的全体员工、科研人员们,是他们的血汗和信念,才有了今天的光刻机,当然也离不开领导们的支持,地方上的政策,还有相关公司、院校、国企单位的合作。”
顿了顿,“可以说,这台DUV浸润式光刻机凝结了华夏半导体从业人员的智慧和野心,也代表着目前国内光刻机的最高水平,距离国际一线的EUV光刻机,只有一代的代差了。”
“生产7nm的良品率是多少?”
郑韩脸上挂着得意的笑容。
毕竟,如此国之重器出自张江技术园区,沪市毫无疑问当得上“华夏半导体之都”。
“不同的芯片不同的良率,但基本能稳定在70%,慢慢调试改进,可以达到80%。”
陆飞比比画画道:“完全可以比肩AMSL,只用4个光罩、4次曝光,就可以达到7nm制程工艺。”
沙领导问道:“现在逻辑和华为的手机用的都是7nm制程工艺的芯片对吗?”
陆飞点了下头,“没错,7nm是目前市面上最先进的制程工艺,不过根据摩尔定律,再过个一两年,就可能突破到5nm。”
“5nm是不是就需要EUV光刻机了?”
郑韩好奇道。
“有EUV光刻机固然是好,只要一次曝光,一个光罩就能实现7nm、5nm,但没有EUV光刻机也无妨,有这台DUV浸润式光刻机也可以做到。”
陆飞露出个看似轻松的笑容。
“喔?”
顷刻间,一众领导的目光齐聚于他。
“梁博士想到的方案,如果把光刻机极限使用,经过6个光罩,9次曝光,也可以实现5nm工艺。”陆飞直截了当地回答。
一个戴着玳瑁眼镜的领导担忧道:“光刻机这么极限使用,会不会影响到使用寿命?”
“还有良率。”
“是啊,经过这么多道曝光,任何一道工序失败,都可能满盘皆输,成本就上来了……”
领导们来回分析,议论纷纷。
陆飞只能一一回答,“损害寿命肯定会损害,良率低也肯定会低一些,成本自然也就会高一点,但这是没有办法的办法,目前EUV光刻机国产化要实现彻底突破,还有不少技术难题摆在面前,需要时间去攻破。”
“比如呢?”
沙领导投去问询的目光。
“光刻机的技术难点主要集中在光源、反射镜、工作台,现在双工作台已经解决了,光源问题也突破了,就剩下物镜系统。”
陆飞直说道:“AMSL、尼康的光刻机用的是蔡司的技术,但蔡司愿意卖给AMSL、尼康,但绝对不会出口给我们。”
然后叹了口气,“没办法,我们只能从零开始,联合长春光机、徕卡、华为等联合研发,现在搞定了DUV浸润式的物镜系统,至于EUV的,恐怕需要很长一段时间。”
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